“Sono artisti emergenti che accettano di mettersi in gioco”. Questi, come ha dichiarato stasera Ferdinando Creta, direttore artistico del Museo Arcos di Benevento, sono i protagonisti della Prima Edizione del concorso internazionale di arte contemporanea “Maleventum Contest” presentata stasera alla Stampa presso i Sotterranei di via Stefano Borgia.
“Maleventum Contest”, che verrà inaugurata domenica 12 aprile 2015 alle ore 11,00, presso il Museo Arcos, porta in gara pitture, sculture e fotografia: la sfida tra gli artisti delle diverse Sezioni e per la scelta della migliore opera in assoluto tra quelle in mostra, nasce da una idea di Lucio Ariemma e Antonio Scala dell’Associazione Artistica2014 e gode del patrocinio della Provincia e della Camera di Commercio di Benevento.
Duplice è l'ambizione di questa manifestazione, secondo il direttore artistico Creta: innanzitutto, essa vuole portare sul proscenio nazionale artisti che ancora non hanno raggiunto la notorietà e la considerazione che probabilmente meritano; la seconda è quella di affermare la formula del "salotto artistico-culturale" per Arcos, un Museo che vuole diventare traino per una ri-scoperta dei tesori d'arte e di cultura della città di Benevento e del Sannio.
Saranno comunque i visitatori a decretare i vincitori delle tre Sezioni e il vincitore assoluto della manifestazione: quanti accederanno ai Sotterranei di Arcos, che tra l'altro ospitano anche i reperti dello straordinario Tempio di Iside di Benevento, potranno dunque valutare anche il lavoro della apposita Giuria che ha scelto i lavori dei pittori, scultori e fotografi ammessi al concorso, e che è composta, oltre che dallo stesso direttore Creta, dal Prof. Massimo Bignardi dell’Università di Siena e dagli artisti Angelo Casciello, Angelo Marra e Attilio Michele Varricchio.
Il vincitore assoluto di “Maleventum Contest” avrà la possibilità di realizzare una mostra alla Galleria Novalis Fine Arts di Hong Kong.
